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硅片除气装置厂家-北京硅片除气装置-科创真空产品

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  • 主营产品:氦检漏设备,中国·必威(西汉姆联)官方网站,LNG抽真空设备
  • 公司地址:北京市昌平区科技园区仁和路4号3幢321房间
咨询热线: 400-188-1915 / 185-1082-6675
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信息详情

真空除气储存柜主要参数

1、炉型结构:卧式与立式,单室与双室或多室,炉体炉门采用双层水冷,前开门结构。由炉体、加热系统、真空系统、充气系统、水冷系统、电控系统组成。

2、极限温度:1500℃

3、工作区尺寸:按照用户需求定制

4、设备总功率:20-100 KW(含加热系统、真空机组、制冷机)

5、电源频率:50Hz

6、电源电压:三相380 V(±10V)


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视频作者:永利3044官网唯一






高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可高达10-7Pa,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点: 

① 极限真空度高;

② 控温精度高;

③ 更高的升温速率;

④ 更加智能化;

⑤ 可真空去除产品空洞与气泡;

⑥ 降低产品的氧化性;

⑦ 提高工艺室的洁净度。


真空除气炉、真空存储柜的保养维护

保修期满后,供方将以优惠价格向用户提供备品备件,并对设备提供终身有偿技术和维修服务;

设备安装调试时,对用户进行技术培训,培训内容包括设备的工作原理、操作、安全、维修、质控等。

设备日常维护包括真空泵的油位检查、电机有无异响、电压电流是否正常、水冷机制冷与流量是否存在异常。真空室内保持清洁,不得有灰尘、异物或者溅入液体以及腐蚀性物质。应当定期对箱室清洁,可以进行酒精擦拭、氮气吹扫等。