真空腔体
航天航空、集成电路、粒子、高速列车、核聚变等技术领域的快速发展，对真空腔体的性能要求提升到一个新的高度。真空腔体需要满足复杂结构造型，高、低温循环，超高压、高真空循环，低泄漏、超洁净，辐照损伤，高温烧蚀，砂砾侵蚀，化学腐蚀等应用条件。中国天和空间站迎来了高速建设阶段，航天员长期在轨停留反映了中国空间技术的快速发展。但是，在现有工业体系下，空间站的服役水平难以实现跨越式发展，需要加强科技力量投入，取得颠覆性技术成果。
真空泄漏
大的泄漏通常会非常明显：真空腔体压力未按正常速度下降，或者极限压力明显高于正常值。然而，有些时候，由于真空泵可以轻松处理泄漏气体造成的气载，小的泄漏很难被发现，这时，即使真空计的读数仍然在正常的水平，泄漏的出现仍有可能为真空腔体带来期望之外的气体（如氧气），这些气体有时候会对工艺过程（比如某些镀膜工艺）带来非常严重的影响。所以，无论真空系统的压力是否有明显下降，都应该定期进行泄漏检测。
真空腔体
电解抛光
电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。电化学抛光过程分为两步：（1）宏观整平 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra>1μm。（2）微光平整 阳极极化，表面光亮度提高，Ra＜1μm 。
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