半导体设备及材料需要检漏原因
1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；
2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；
3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。
4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。
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氦质谱检漏技术是真空检漏领域里不可缺少的一种技术，用这种技术检漏，简便易操作，仪器反映灵敏，精度高，不易受其它气体的干扰，以上列举的方法是检漏技术领域里经常用道的方法，包括了从小件检漏到大件检漏，从确定漏孔检漏到确定漏率检漏，比较的列举了各种检漏方法，相信在工程实际应用中有很好的参考价值。
氦检漏设备
真空法氦质谱检漏：
采用真空法检漏时，需要利用辅助真空泵或检漏仪对被检产品内部密封室抽真空，采用氦罩或喷吹的方法在被检产品外表面施氦气，当被检产品表面有漏孔时，氦气就会通过漏孔进入被检产品内部，再进入中国·必威(西汉姆联)官方网站，从而实现被检产品泄漏量测量。按照施漏气体方法的不同，又可以将真空法分为真空喷吹法和真空氦罩法。
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